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新加坡科技设计大学Joel Yang教授团队 Nat. Commun.:基于取放工艺实现3D打印微纳结构的均匀收缩

老酒高分子 高分子科技
2024-09-08
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增材制造技术为快速构建任意复杂3D结构,实现加工过程的低碳环保提供了可能。其中,双光子聚合光刻 (Two-photon Polymerization Lithography, TPL) 是制备微纳结构最有前景的技术之一,具有巨大的应用潜力,然而,TPL的打印分辨率受到材料的结构刚性、光学衍射极限以及曝光邻近效应的限制,直接打印高精度亚波长结构相对困难。虽然受激发射耗尽直接激光写入技术和扩散辅助高分辨率 TPL 方法已被采用来提高分辨率,但是这些方法需要复杂的机械与光学系统和定制的光刻胶。热解收缩可以帮助我们直接获得高分辨率和高精度的纳米级结构,并增强结构的机械性能,已广泛应用于力学超材料等的研究和应用中。


然而在热解收缩过程中,由于结构底层和衬底之间的粘附力,结构底部很容易因收缩而变形。对实际应用而言,结构变形会导致机械和光学性能不均匀,进而使器件的表现偏离初始设计。虽然通过借助可牺牲支撑结构,如弹簧、脚手架和基座等来支撑主要结构并部分规避这个问题,或者通过增加设计结构的高度以在顶部获得相对均匀的结构,代价是牺牲扭曲的基底并增加打印时间,而且很多结构可能无法实现设计所需的功能。到目前为止,尚无合适的方法来实现整个 3D 打印结构的均匀收缩。

近日,针对这一挑战,新加坡科技设计大学(Singapore University of Technology and Design, SUTD)Joel K.W. Yang 教授团队开发了一种基于取放工艺的3D打印微纳结构均匀收缩技术(图1)。在这项研究中,作者使用聚乙烯醇(polyvinyl alcohol,PVA)为功能层来实现 3D 打印结构的转移。 PVA 是一种水溶性聚合物,其在使用有机溶剂后处理3D打印结构的过程中不受影响,但它很容易溶解在水中,因此 3D 结构可以很容易地从原始衬底上分离,并被转移到接收衬底上,从而以减小结构基底和接收衬底之间的相互作用力。随后,接收衬底上的 3D 结构被加热并收缩,进而获得原始形状的均匀收缩版本。作者制备了具有各种微米和纳米级特征的3D结构,并在光学和电子显微镜下观察到了均匀收缩,证明该工艺的可行性(图2)。作者还测量了所制备结构的表面粗糙度、表面自由能和粘附力,对比了不同衬底下的热解收缩过程以阐释其中的均匀收缩机制(图3)。最后,该团队采用这项技术实现了光子晶体组成的彩色且不失真的复杂 3D 吉祥物模型(图4)。由于该技术可以轻松控制任何形状、尺寸、位置的3D结构的均匀收缩,因而可以扩展至全彩和任意复杂设计,并应用于光学和光子学中其他需要均匀 3D 微纳结构的研究领域,同时为进一步实现 3D 打印光学元件与其他器件的集成提供了新的解决方案。作者预计在未来的研究中,该技术方案可以进一步简化, 例如,3D微观物体的热解收缩可以在高耐热溶液材料(例如鏻离子液体)中预先进行,从而避免接收衬底的影响。此外,直接加热而无需转移过程的均匀收缩也值得深入探究。该技术及相关衍生技术也适用于其他增材制造工艺,并有助于为多尺度多材料复合结构的加工开辟新的路径。


该工作以“Pick and place process for uniform shrinking of 3D printed micro- and nano-architected materials”为题发表于Nature Communications (Nat. Commun., 2023, 14, 5876)。论文第一作者兼通讯作者为新加坡科技设计大学访问学者Tomohiro Mori博士(日本和歌山县工业技术中心,Industrial Technology Center of Wakayama Prefecture,WINTEC),其他通讯作者为新加坡科技设计大学王浩博士Joel K. W. Yang教授

 

图1. a: 3D打印结构在热解收缩过程中的非均匀收缩;b: 基于取放工艺的结构均匀热解收缩。

 

图2. 具有微米尺度结构特征的3D打印模型的均匀热解收缩。


 图3. 具有纳米尺度结构特征的3D打印光子晶体在不同衬底上的热解收缩对比。a: 在PVA膜上直接打印的结构;b,e: 直接热解收缩;c,f: 转移到其他玻璃衬底上热解收缩;d,g: 在防粘层覆盖的衬底上热解收缩;h: 结构界面转移及黏附示意图;i: 原子力显微镜下不同衬底的表面粗糙度对比;j: 不同衬底下表面自由能和黏附力的对比。
 

图4. 具有纳米尺度特征的复杂3D光子晶体的均匀热解收缩。


该工作是团队基于TPL 技术打印光子晶体相关研究的最新进展之一。借助3D微纳加工工艺调控光谱是当前研究的热点,而结构设计与工艺开发是其中的难点。为此,团队近年来开发了热解收缩彩色3D光子晶体工艺(Nat. Commun., 2019, 10, 4340),实现了侧向高精度彩色3D光子晶体(ACS Nano, 2022, 16, 5, 8244–8252)。此外还开发了基于自组装的光子晶体3D打印技术(Nano Lett., 2021, 21, 20, 8602–8608),以及基于低折射率材料3D打印简单纳米柱的结构色调控技术(Nano Lett., 2021, 21, 11, 4721–4729; ACS Nano, 2021, 15, 6, 10185–10193; Nat. Nanotechnol., 2023, 18, 264-272),3D打印可拉伸光子晶体(Adv. Mater., 2022, 34 (6), 2108128; Nano Lett., 2023, 23, 12, 5520–5527),4D打印形状记忆动态光谱调制技术(Nat. Commun., 2021, 12, 1-8; Nano Lett., 2022, 22, 22, 8917-8924)等,并系统总结了TPL技术在光学与光子学领域的应用和面临的挑战(Adv. Funct. Mater., 2023, 2214211)。


原文链接:

https://www.nature.com/articles/s41467-023-41535-9


点击下方“阅读原文”可下载该篇论文。


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